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雷明凯等人赴美国参加学术会议总结公示
时间: 2018-11-05      点击数:

2018年10月21日至10月28日,大连理工大学材料科学与工程学院教师雷明凯教授、李玉阁讲师和博士研究生蒋智韬受邀赴美国长滩参加了AVS 65thInternational Symposium & Exhibition(AVS 65th,2018年第65届美国真会学会国际会议)。

AVS 65th由美国真空学会主办,是薄膜技术领域、等离子表面改性技术领域等的全球论坛,是当前世界上最具影响力的薄膜领域国际学术会议之一。本次会议涵盖28个分论坛,近千人参会。内容覆盖了表面科学、薄膜、摩檫学、真空技术、应用表面科学、纳米尺度科学与技术、等离子体科学与技术及先进表面工程等领域,为国际上该领域内科学研究人员、工程技术人员和企业管理人员提供了高效的交流平台。

雷明凯教授在会上做了题目为“Scratch Behavior and Modelling of Cu/Si(100) Thin Films Deposited by Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering”的报告,李玉阁做了“Isomeric Phase Composition and Mechanical Properties of NbN Nanocomposite Coatings Deposited by Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering”的报告,蒋智韬做了“Experimental and Numerical Evaluation of Cohesive and Adhesive Failure Modes during Indentation of TiAlN Coatings on Si(100) Deposited by MPPMS”的报告,会上与相关领域专家进行了交流,提高我校在材料表面工程领域的影响力。

说明: D:\教学科研事务\科研\06. 会议\2018年第65届AVS会议\会议留影\mmexport1540388024443.jpg

大连理工大学材料科学与工程学院

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